Positionnement d'un échantillon dans un dispositif de photolithographie par écriture directe

Positionnement d'un échantillon dans un dispositif de photolithographie par écriture directe, situé dans une salle blanche du bâtiment Z de l'Institut Néel. Cet appareil permet de réaliser des structures de résolution allant jusqu'à 1 µm, à la surface d'échantillons, par photolithographie. Un faisceau laser focalisé dessine un motif dans la résine étalée sur un substrat qui se déplace avec une très grande précision, grâce à une platine interférométrique. Cette technique, très souple et rapide, associée à des méthodes pour l'obtention de résolutions plus agressives (lithographie électronique, microscopie à force atomique...) permet la fabrication d'objets destinés à comprendre les mécanismes fondamentaux régissant la physique des petits objets.