Production year
2010
© Cyril FRESILLON/CNRS Images
Reference
20100001_1218
Film mince d'alumine amorphe déposé sur un substrat de silicium et présentant des gradients d'épaiss
Film mince d'alumine amorphe déposé sur un substrat de silicium et présentant des gradients d'épaisseur (0,5-07 µm). L'objectif de la recherche menée est de modéliser le procédé MOCVD (Metal Organic Chemical Vapour Deposition - Dépôt chimique en phase vapeur à base d'organométalliques) par un code de CFD (Computational Fluid Dynamic) et d'étudier les propriétés mécaniques, les comportements anticorrosion et anti-oxydation des revêtements.
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