Production year
2002
© Laurence MEDARD/CNRS Images
Reference
20020001_0216
Au premier plan : écran de contrôle du dispositif de gravure par faisceau d'ions focalisé (à l'arriè
Au premier plan : écran de contrôle du dispositif de gravure par faisceau d'ions focalisé (à l'arrière-plan). Les flèches indiquent les zones à graver. Ce dispositif a permis de réaliser les premiers cristaux photoniques tri-dimensionnels ("yablonovites"), dans un substrat de silicium, fonctionnant dans la gamme de l'infrarouge proche (LPS, Orsay, collaboration IEF).
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