19950001_1030

© Alain MURIOT/CNRS Images

Reference

19950001_1030

Etude des interfaces et de la croissance des matériaux déposés en couches minces par plasma. Réacteu

Etude des interfaces et de la croissance des matériaux déposés en couches minces par plasma. Réacteur de dépôt de couches minces par plasma combinés microonde-radiofréquence. Ellipsomètre infrarouge à modulation de phase.

Scientific topics

CNRS Images,

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