Observation d'un plasma d'ions Argon dans un équipement de gravure ionique par faisceau d'ions

Observation d'un plasma d'ions Argon, issu de la source d'ions RF ICP de 12 cm de diamètre, à l'intérieur d'un équipement de gravure ionique par faisceau d'ions argon, oxygène (IBE 4Wave). Cet équipement permet de graver, de manière non sélective et atome par atome, une succession de fines couches (nm) de matériaux (métal, isolant, polymère) et de s'arrêter précisément dans une couche, grâce à l'assistance d'un spectromètre de masse d'ions secondaires SIMS. Un des intérêts de cette technique consiste à graver jusqu'à une barrière tunnel pour les applications nanomagnétiques.