
© Hubert RAGUET/CNRS Images
Substrat en silicium structuré pour la microfabrication de dispositifs microfluidiques. Plaque et en
Référence
20060001_0102
Année de production
2006
Taille maximale
21.95 x 32.78 cm / 300 dpi
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Substrat en silicium structuré pour la microfabrication de dispositifs microfluidiques. Plaque et enceinte chauffante programmable. Sur le substrat de silicium est déposé un film mince de résine photosensible gravée ensuite par exposition à une radiation lumineuse. La photolithographie est une étape essentielle à la microfabrication.