Détails d'un réacteur de dépôt assisté par plasma (PACVD) et du fonctionnement de sources plasma mul

Détails d'un réacteur de dépôt assisté par plasma (PACVD) et du fonctionnement de sources plasma multi-dipolaires. Les zones de RCE (Résonance Cyclotronique Electronique) sont bien visibles à la périphérie des dipôles magnétiques (aimants) de chaque source. L'objectif est de réaliser de nouvelles sources de génération de plasma de grandes dimensions. Les applications sont les dépôts de couches minces par le procédé de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PACVD), ou implantation ionique par immersion plasma (IIIP ou PBII). Les conditions de fonctionnement sont les suivantes : argon / 0,8 mTorr / 120 W par source.