Année de production
2002
© Laurence MEDARD/CNRS Images
Référence
20020001_0730
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Plasma d'oxygène pour implantation ionique par immersion plasma. Génie des réacteurs plasma basse pression excités à la Résonance Cyclotronique Electronique (RCE) à 2,45 GHz pour application aux traitements de surface : dépôts de couches métalliques par pulvérisation assistée par plasma, implantation ionique, gravure...
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