© Alain MURIOT/CNRS Images
Référence
19950001_1026
Etude des interfaces et de la croissance des matériaux déposés en couche mince par plasma.Réacteur d
Etude des interfaces et de la croissance des matériaux déposés en couche mince par plasma.Réacteur de dépôt de couche mince par filament chaud.
Ajouter à ma sélection
Conditions d'utilisation
L’utilisation des médias visibles sur la Plateforme CNRS Images peut être accordée sur demande. Toute reproduction ou représentation est interdite sans l'autorisation préalable de CNRS Images (sauf pour les ressources sous licence Creative Commons).
Aucune modification d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Aucune utilisation à des fins publicitaires ou diffusion à un tiers d'une image ne peut être effectuée sans l'accord préalable de CNRS Images.
Pour plus de précisions consulter Nos conditions générales
