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20180004_0090

© Cyril FRESILLON / C2N / CNRS Images

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Chambre de caractérisation in situ du cluster-tool d'épitaxie par faisceaux chimiques

Chambre de caractérisation in situ du cluster-tool d'épitaxie par faisceaux chimiques (CBE : Chemical Beam Epitaxy) de l'équipe HETERNA du Centre de nanosciences et de nanotechnologies (C2N). Elle comprend un spectromètre électronique, un canon à électrons focalisé pour la microscopie électronique à balayage et la microscopie Auger, et une source de rayons X permettant de réaliser des mesures de spectroscopie de photoélectrons (XPS) résolue en angle. Le cluster-tool CBE est un équipement réalisé en interne pour la croissance des matériaux IV-IV et III-V sur des substrats (wafers) de 4 pouces et 8 pouces. Cette installation est composée de 4 différentes chambres : un sas d'introduction pouvant contenir 5 wafers (de 4" ou 8 ''), deux chambres de croissance CBE et cette chambre de caractérisation. PlatefOrme Élaboration des Matériaux (POEM) du C2N.

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