20070001_1361

© Hubert RAGUET / CNRS Images

Reference

20070001_1361

Réacteur d'épitaxie par ablation laser pulsée. Le matériau à déposer est vaporisé par un laser de pu

Réacteur d'épitaxie par ablation laser pulsée. Le matériau à déposer est vaporisé par un laser de puissance pulsé et recueilli sur un substrat. Ce réacteur est utilisé pour la croissance de films et hétérostructures d'oxydes.

CNRS Institute(s)

Regional office(s)

Scientific topics

CNRS Images,

Our work is guided by the way scientists question the world around them and we translate their research into images to help people to understand the world better and to awaken their curiosity and wonderment.