Production year
2004
© Xavier PIERRE/CNRS Images
Reference
20050001_0247
Enceinte ultra vide (UHV) développée pour la fabrication et la caractérisation des sources d'ions à
Enceinte ultra vide (UHV) développée pour la fabrication et la caractérisation des sources d'ions à métal liquide (LMIS) qui sont au coeur de la technologie des faisceaux d'ions focalisés (FIB). Le principe opératoire de ce type de sources d'ions dit "ponctuel" repose sur un contrôle de la diffusion et de l'ionisation d'un film de gallium liquide déposé sur une aiguille de tungstène placée sous un vide poussé. Ici il est procédé au dégazage d'un creuset en matériau réfractaire contenant du gallium, ainsi que de l'aiguille de tungstène qui est portée à une température d'environ 2000 °C.
Add to my selection
Terms of use
The use of media visible on the CNRS Images Platform can be granted on request. Any reproduction or representation is forbidden without prior authorization from CNRS Images (except for resources under Creative Commons license).
No modification of an image may be made without the prior consent of CNRS Images.
No use of an image for advertising purposes or distribution to a third party may be made without the prior agreement of CNRS Images.
For more information, please consult our general conditions
