Production year
2002
© Laurence MEDARD/CNRS Images
Reference
20020001_0733
Dispositif pour l'étude de source élémentaire de plasma excitée à la RCE à 2,45 GHz. Génie des réact
Dispositif pour l'étude de source élémentaire de plasma excitée à la RCE à 2,45 GHz. Génie des réacteurs plasma basse pression excités à la Résonance Cyclotronique Electronique (RCE) à 2,45 GHz pour application aux traitements de surface : dépôts de couches métalliques par pulvérisation assistée par plasma, implantation ionique, gravure...
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