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20110001_0950

© Cyril FRESILLON/CNRS Images

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Equipement d'ellipsométrie permettant la mesure de l'épaisseur et de l'indice optique de couches tra

Equipement d'ellipsométrie permettant la mesure de l'épaisseur et de l'indice optique de couches transparentes aux longueurs d'ondes émises par l'équipement. A droite, le détecteur qui reçoit la lumière réfléchie par un substrat. Cet appareil sert à caractériser l'empilement de couches de divers matériaux constituant les microcomposants. Chaque couche est mise en forme par des techniques de lithographie, dépôts et gravure. Ces recherches sont effectuées au sein d'une plateforme de micro et nanotechnologies appartenant au réseau Renatech.

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